日本 位相差橢圓偏振測量儀

日本 位相差橢圓偏振測量儀

核心技術(shù)與性能優(yōu)勢

• 超寬量程覆蓋：突破傳統(tǒng)設(shè)備量程限制，從 2nm 以下的超低位相差到 20000nm 的超高位相差，一臺設(shè)備滿足全場景測量需求

• LED 光源革命：采用長壽命 LED 光源，告別傳統(tǒng)汞燈的定期更換，設(shè)備維護(hù)成本大幅降低，同時提升測量穩(wěn)定性

• 精度全面提升：方位角分辨率提升至 0.001°，位相差重復(fù)性提升 3 倍以上，確保測量數(shù)據(jù)的精準(zhǔn)性與長期一致性

• 緊湊型設(shè)計：在不損失性能的前提下，設(shè)備體積大幅縮小，適配實驗室空間緊張的場景

全場景測量能力

• 位相差檢測：精準(zhǔn)測量光學(xué)薄膜、塑料、玻璃的雙折射與內(nèi)應(yīng)力，為材料品質(zhì)管控提供數(shù)據(jù)支撐

• 橢圓偏振分析：HBPR 型號可完成橢圓偏振光測量，精準(zhǔn)計算薄膜厚度、折射率等光學(xué)參數(shù)，適配半導(dǎo)體、光學(xué)涂層行業(yè)

• 分光測量：SPC 型號支持 400~800nm 全光譜分光測量，可分析樣品的光譜特性，適配復(fù)雜多層膜結(jié)構(gòu)分析

• 斜入射測量：支持 30~40° 斜入射測量，適配偏光片等特殊樣品的檢測需求

操作與維護(hù)