在半導(dǎo)體封裝、電子器件制造等精密工藝中，基板表面的有機(jī)殘留、光刻膠灰化等污染物，直接影響器件性能與良率。傳統(tǒng)濕法清洗易造成基板損傷，真空清洗設(shè)備成本高、操作復(fù)雜，而SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗機(jī)憑借溫和的干式工藝，成為行業(yè)內(nèi)高效且安全的表面處理解決方案。

這款設(shè)備無需真空系統(tǒng)，在大氣壓下即可穩(wěn)定運(yùn)行，通過紫外光激發(fā)臭氧，配合加熱臺面的溫度控制，實(shí)現(xiàn)對硅、玻璃、GaN/GaAs/InP/SiC 等化合物半導(dǎo)體、藍(lán)寶石、陶瓷基板的有機(jī)物高效去除。可處理 φ100 mm 基板及 4 英寸晶圓，加熱臺面不僅能加快清洗速率，還能模擬實(shí)際制程溫度，讓工藝結(jié)果更貼近生產(chǎn)場景。

SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗機(jī)在設(shè)計(jì)上充分考慮了工業(yè)使用的安全性與便捷性：配備上蓋連鎖機(jī)制，上蓋開啟時(shí)系統(tǒng)無法運(yùn)行，避免誤操作；自帶臭氧分解裝置，確保排氣時(shí)臭氧濃度降至安全范圍；同時(shí)支持自動(dòng) N? purge 循環(huán)、加熱臺面保險(xiǎn)絲保護(hù)、臭氧洗滌及緊急停止按鈕，保障生產(chǎn)安全。

它的應(yīng)用場景十分廣泛：可用于塑膠封裝及引線框架的表面清洗，也能完成化合物半導(dǎo)體的表面處理；還能實(shí)現(xiàn)表面改質(zhì)（提升親水性與附著力）、表面氧化（形成氧化薄膜）、光阻灰化與殘留清洗等多種工藝需求，是半導(dǎo)體研發(fā)、小批量生產(chǎn)的理想設(shè)備。

作為 SAMCO 品牌的經(jīng)典機(jī)型，UV-1 以其精簡緊湊的結(jié)構(gòu)、穩(wěn)定可靠的性能，深受電子制造、科研院所用戶的認(rèn)可。我們提供專業(yè)的選型支持、安裝調(diào)試與技術(shù)服務(wù)，可根據(jù)您的基板類型與工藝需求，定制清洗方案。