shinkuu真空蒸鍍?cè)O(shè)備的特點(diǎn)

shinkuu真空蒸鍍?cè)O(shè)備的特點(diǎn)

真空蒸發(fā)系統(tǒng)是在真空氣氛中使材料蒸發(fā)、蒸發(fā)，在樣品上形成薄膜的裝置。

通常使用渦輪分子泵在高真空下沉積薄膜，并且可以制造沒(méi)有雜質(zhì)的薄膜。

真空設(shè)備用蒸鍍?cè)O(shè)備可以通過(guò)順序程序控制操作輕松創(chuàng)建高真空環(huán)境，具有緊湊且價(jià)格低廉的產(chǎn)品陣容，非常適合研究和開(kāi)發(fā)。從大氣壓到 10x10 -4 Pa 區(qū)域的到達(dá)時(shí)間約為 5 分鐘。我們將通過(guò)轉(zhuǎn)換傳統(tǒng)的舊系統(tǒng)來(lái)加快研發(fā)速度。

VE-2013，桌面大小的緊湊型高真空氣相沉積系統(tǒng)

我們提供具有緊湊型 TMP + RP 排氣系統(tǒng)且價(jià)格低廉的清潔高真空氣相沉積系統(tǒng)。
取消復(fù)雜的排氣操作，僅通過(guò)觸摸面板開(kāi)關(guān)的 ON/OFF 實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。
通過(guò)結(jié)合小型渦輪分子泵（RP 放置在外部）實(shí)現(xiàn)緊湊的尺寸。它在桌子上的小空間里工作得很好。
金、鋁、鉻、銀等可以通過(guò)使用鎢籃進(jìn)行氣相沉積。碳沉積使用使用特殊碳 ( SLC-30 ) 進(jìn)行沉積的夾式沉積槍類(lèi)型。
該機(jī)型專(zhuān)門(mén)用于電鏡樣品的預(yù)處理和金、鋁、鉻等薄膜的制備。