紅外線高速加熱爐的工作原理及應(yīng)用范圍

只有安裝在各種氣氛（例如超高真空或氣流）中的樣品才能通過紅外線jing確定位，以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。

它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。

	快速升溫	：gao升溫速度150℃/秒，gao1500℃約1min
	清潔加熱	：不用擔(dān)心熱源或電磁感應(yīng)產(chǎn)生的氣體
	局部供暖	：僅用紅外線照射樣品，請勿加熱周圍環(huán)境
	可自由安裝	：可以連接到各種系統(tǒng)

	高速升溫和Si和SiC等樣品的退火
	氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
	在氫氣和氮?dú)庵屑訜峄?/td>
	在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
	在分析儀中加熱樣品，例如加熱的解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等。
	在磁場中加熱，在非磁場中加熱
	在加壓氣氛中加熱
	加熱樣品

　　　紅外線引入加熱裝置根據(jù)應(yīng)用具有以下規(guī)格。

超高真空型	它支持　10 ^-9 Pa的超高真空。
高速升溫型	大溫度上升率可以實現(xiàn)150°C /秒的高速溫度上升。
常溫加熱型	對于放置在大氣中的樣品，可以進(jìn)行點加熱。
加壓氣氛類型	可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
特殊功能	利用GV系列的功能，我們可以滿足各種要求，例如快速降溫，負(fù)載加熱和磁場加熱。　請隨時與我們聯(lián)系。
CE標(biāo)志合格	我們還生產(chǎn)符合CE標(biāo)志的規(guī)范。

原理圖

　超高真空型GVH

　高速升溫型GV / GVL

　加壓氣氛類型GVP

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